References
- [1] T
hornton J., J. Vac. Sci. Technol. A, 11 (1974), 666.10.1116/1.1318567 - [2] C
hristyakov R., Abraham B., Summer Bulletin, Soc. Vac. Coat., (2009), 46. - [3] P
osadowski W.M., Wiatrowski A., Dora J., Radzimski Z.J., Thin Solid Films, 516 (2008), 4478. - [4] W
iatrowski A., Posadowski W.M., Mater. Sci.-Poland, 34 (2016), 374. - [5] N
owakowska -Langier K., Chodun R., Minikayev R., Kurpaska Ł., Skowroński Ł., Strzelecki G.W., Okrasa S., Zdunek K., Nucl. Instrum. Meth. B, 409 (2017), 167. - [6] K
rówka K., Wiatrowski A., Posadowski W.M., Thin Solid Films, 520 (2012), 4127. - [7] Z
dunek K., Nowakowska -Langier K., Chodun R., Okrasa S., Rabiński M., Dora J., Domanowski P., Halarowicz J., J. Phys.-Conf. Ser., 564 (1) (2014), 012007. - [8] http://www.gencoa.com/balance_and_unbalance, accessed on: 2018.07.18.
- [9] G
anesan R., Treverrow B., Murdoch B., Xie D., Ross A.E., Partridge J.G., Falconer I.S., Mcculloch D.G., Mckenzie D.R., Bilek M.M.M., J. Phys. D Appl. Phys., 49 (2016), 245201. - [10] NIST Atomic Spectra Database Lines, https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database, accessed on: 2018.07.18.
- [11] N
owakowska -Langier K., Chodun R., Minikayev R., Okrasa S., Strzelecki G.W., Wicher B., Zdunek K., Thin Solid Films, 645 (2018), 32. - [12] http://www.semicore.com/reference/sputtering-yields-reference, accessed on:2018.07.18.