A study of properties of ZrO2 thin films deposited by magnetron sputtering under different plasma parameters: Biomedical application
Authors
Hind Zegtouf
Laboratoire Physique des Matériaux, Faculté de Physique, USTHB, Algiers, Algeria
Nadia Saoula
Division Milieux Ionisés et Lasers, Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTA, Algiers, Algeria
Mourad Azibi
Division Milieux Ionisés et Lasers, Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTA, Algiers, Algeria
Larbi Bait
Division Milieux Ionisés et Lasers, Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTA, Algiers, Algeria
Noureddine Madaoui
Division Milieux Ionisés et Lasers, Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTA, Algiers, Algeria
Mohamed Redha Khelladi
Laboratoire de Chimie, Université Ferhat Abbas-Sétif 1, Sétif, Algeria
Mohamed Kechouane
Laboratoire Physique des Matériaux, Faculté de Physique, USTHB, Algiers, Algeria
Language: English
Page range: 117 - 121
Submitted on: Mar 19, 2019
Published on: Sep 28, 2019
Published by: Slovak University of Technology in Bratislava
In partnership with: Paradigm Publishing Services
Publication frequency: 6 issues per year
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© 2019 Hind Zegtouf, Nadia Saoula, Mourad Azibi, Larbi Bait, Noureddine Madaoui, Mohamed Redha Khelladi, Mohamed Kechouane, published by Slovak University of Technology in Bratislava
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